光催化反应装置上海光化学反应仪

光催化系统就是光触媒在外界光的作用下发生催化作用,光触媒在光照条件下(可以是不同波长的光照)所起到的催化作用的化学反应。从1972年,Fujishima在半导体TiO2电极上发现了水的光催化分解作用,从而开辟了半导体光催化这一新的领域。1977年,Yokota发现光照条件下,二氧化钛对丙烯环氧化具有光催化活性,拓宽了光催化应用范围,为有机物氧化反应提供了一条新思路。此后光催化技术在能源制氢、光催化反应装置二氧化碳还原、污染物降解等方面迅速发展起来,光催化制氢在解决环境和能源问题上具有广阔的应用前景。当光子能量高于半导体吸收阈值的光照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,即从价带跃迁到导带,从而产生光生电子(e-)和空穴(h+)。此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。光催化系统 RTK光催化系统 RTK光催化系统 972年,日本FujishimaA和HondaK首次报道了TiO2光催化分解水产生H2这一现象后,揭示了利用太阳光分解水制氢的可能性,开辟了将太阳能转换为氢能的研究道路。随后,科学家们不断研究具有高催化性的催化剂及研究体系,并取得了重大进展。光催化系统作为研究的必备仪器,起到了举足轻重的作用。RTK光催化系统国内首家突破传统体系,模拟工业化生产环境,实现常温常压条件下研究环境,采用独特的RTKGMC专利技术,无需GC,直接对光催化过程中的产气量(氢气或氧气)或产气速率进行计量。同时,突破了传统装置由于自身设计所导致的低量程瓶颈,可以实现较高量程产气量光催化反应装置(产气速率)的实时、在线监测,适用于各种不同产率的催化剂体系评价。光催化系统可以应用于常温常压光催化制氢、常温常压光催化制氧、常温常压二氧化碳还原以及光催化降解等领域。1、非真空:实现常温常压条件下光解水制氢;   2、简单不漏气:配套装置少,易操作,易维护。无真空玻璃管道,无复杂安装。无阀门,不漏气;   3、重复性好:直接计量产气量(产气速率),避免了传统装置因气体循环不畅所导致的测量误差,实验重复性更好;   4、高量程:测量产率可高达800mmol/g/h,适合各种产率催化剂体系的研究;   5、自动测量:专利技术,实时自动记录测量数据,无需GC,无标定误差;   6、无需计算:避免了传统装置产氢量的计算误差,直接测量产氢体积(或质量、产氢速率),无需计算;   7、模拟工业环境:非真空环境更加接近真实的工业环境,可以探索工业条件下的光解水制氢;   8、多通道:可根据客户的科研需求,个性化定制多通道装置,有利于做平行实验。

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